2017 »»»
Neuer Firmenname HS-Group GmbH
2014 »»»
Durch Übernahme einer Investorengruppe neue Firmierung unter HS-PlasmaTec GmbH
2011 »»»
Bezug neuer Räumlichkeiten in 63512 Hainburg.
Produktions- und Bürofläche 360 m2
2007 »»»
Neuausrichtung der Firma für Strahlanalysen mit Mikrosystemtechnik
2006 »»»
Weiterentwicklung der Plasmastrahlquellen für Linearsystem; Patentanmeldungen
2005 »»»
Weltweite Nachrüstung der Circulussysteme zur Abscheidung dünner Kohlenstoffschichten durch PBS Plasmaquellen; Weiterentwicklung von PBS Plasmaquellen zur Ionenunterstützung im Hochvakuum mittels fluorischer Stoffe für den DUV/VUV Bereich 193nm
2004 »»»
Fertigung der ersten industriellen Anlage zur Erzeugung von Mikroarrays zur Gasanalyse
2003 »»»
Beginn Überführung C-Gun zur Abscheidung dünner Kohlenstoffschichten in industrielle Fertigung
2002 »»»
Verlegung des Firmensitzes nach Kleinwallstadt; Weiter intensivierte Zusammenarbeit mit der Jakob Vakuumtechnik
2001 »»»
Bau einer 1m Ionenquelle zur Abscheidung von SiO2 -Schichten für industrielle Fertigung von Gassensormikroarrays
2000 »»»
Projektstart zur Entwicklung neuartiger Sensoren zur Gasanalyse
1999 »»»
Zusammenschluss mit der Jakob Gruppe und verstärkte Zusammenarbeit mit der Jakob Vakuumtechnik
1998 »»»
Neukonzeption induktiv gekoppelter RF-Ionenquellen mit veränderlichem Stahlgeometrie (ECWR = Elektron Cyclotron Wave Resonance); “Erste der Ersten” Linear-Ionenquelle mit 30cm Strahlgeometrie und 3-fach Extraktionsgitter
1996 »»»
Erste Versuche zur industriellen Abscheidung ultradünner Kohlenstoffschichten mittels Plasmastrahlquellen (PE-CVD Prozess)
1994 »»»
Fertigung der weltweit ersten Plasmaquelle mit neutralem Plasmastrahl; Arbeitsprinzip: „Self-biasing-effekt“ von Prof. Dr. Hans Oechsner
1993 »»»
Gründung als “Start up” der Universität Kaiserslautern